ما هو الهدف المناسب لآلة طلاء الدماغ PVD؟

تحتوي المادة المستهدفة المتوقفة على خصائص نقاء عالية وكثافة عالية ومتعددة المكونات والحبوب الموحدة ، والتي تتكون عمومًا من لوحة فارغة وخلفية مستهدفة. ينتمي الفراغ المستهدف إلى الجزء الأساسي من المواد المستهدفة المتدلية وهو المادة المستهدفة التي يتم قصفها بواسطة شعاع أيون عالي السرعة. بعد أن يتأثر الهدف بالأيونات ، يتم إفساد الذرات الموجودة على سطح الهدف وترسبها على الركيزة لتشكيل فيلم رفيع إلكتروني. نظرًا لانخفاض قوة المعادن عالية الطهارة ، يحتاج هدف التلاشي مصنعي آلة طلاء البلازما الصينية بيئة. يجب ربط الهدف المذهل الفارغ من المعدن الفائق الطهارة مع اللوحة الخلفية من خلال عمليات اللحام المختلفة. تلعب اللوحة الخلفية بشكل رئيسي دور إصلاح هدف الثرثرة ، ويجب أن يكون لها توصيل كهربائي جيد وحراري.

وفقًا للمواد المختلفة المستخدمة ، يمكن تقسيم أهداف الضيق إلى هدف مواد أحادية المعادن / غير المعدنية ، وهدف السبائك والهدف المركب. تتمتع تقنية ترسب الثرثرة بتكرار جيد ، ويمكن التحكم في سمك الفيلم ، ويمكن الحصول عليها على مساحة كبيرة من مواد الركيزة بسمك موحد. تتمتع الأفلام التي تم إعدادها بمزايا نقاء عالية ، وضغط جيد وتصاق قوي مع مواد الركيزة ، والتي أصبحت واحدة من التقنيات الرئيسية لإعداد مواد الأفلام الرقيقة.

تعد أهداف الطهارة العالية والأهداف المتدهورة مكونات مهمة للمواد الإلكترونية. تتضمن سلسلة الصناعة المستهدفة بشكل أساسي تنقية المعادن والتصنيع المستهدف وطلاء الثرثرة والتطبيق النهائي ، من بينها أن التصنيع المستهدف والطلاء المتدقة هي الروابط الرئيسية في سلسلة الصناعة المستهدفة بالكامل.

تنقية المعادن المنبع هي أساسا من الخامات المعدنية المفتاح الطبيعي. يمكن أن تصل نقاء المعادن العامة إلى 99.8 ٪ ، ويجب أن يصل نقاء الهدف المتدحرج إلى 99.999 ٪.

إذا كنت تريد معرفة المزيد ، يمكنك أيضًا الاتصال بنا.

Ningbo Danko Vacuum Technology Co. ، Ltd.

سارة

الهاتف: 86-15867869979

بريد إلكتروني: [email protected]

WeChat: 15867869979

Whatsapp: 86-15867869979

www.pvd-coatingmachine.com