ما هو التنازل المشترك والتفريغ المشترك؟

الثرثرة والتبخر الحراري هما اثنان من ترسيب البخار المادي الشائع PVD الصين مصنعي أنظمة طلاء PVD تقنيات عملية طلاء الأفلام الرقيقة. يتم تنفيذ هذه الطرق في بيئة فراغ عالية ، في قلب أشباه الموصلات ، البصريات ، الضوئيات ، الزرع الطبي ، صناعة السيارات عالية الأداء والصناعات الجوية.

"CO" تعني متبادلة ، شائعة - أكثر من واحد. تعني التنازل المشترك والتنقيط المشترك أكثر من مادة طلاء واحدة يتم تطبيقها على الركيزة التي تسمح بإنشاء مجموعة واسعة من التراكيب والسبائك الجديدة والسبائك مع صفات فريدة ومدهشة غير ممكنة دون هذه التكنولوجيا الرقيقة المتوسعة.
إن التغلب على المشاركة هو حيث يتم تخفيف المواد المستهدفة (أو "المصدر") ، إما في وقت واحد أو بالتسلسل في غرفة الفراغ ، وغالبًا ما يتم استخدامها مع التخلي عن المغنطيسية التفاعلية لإنتاج أفلام رقيقة هي توافقي مثل السبائك المعدنية أو التراكيب غير المعدنية مثل السيراميك.

يستخدم على نطاق واسع في الصناعات الزجاجية البصرية والمعمارية. من خلال الاستفادة من الانتشار المشترك التفاعلي لمادة مستهدفة مثل السيليكون والتيتانيوم مع الضعف المغنطيسي المزدوج ، يمكن التحكم في مؤشر الانكسار أو التظليل للزجاج بعناية ودقيقة على التطبيقات التي تتراوح من الأسطح واسعة النطاق ، مثل الزجاج المعماري ، إلى النظارات الشمسية. كما أنه يستخدم على نطاق واسع إنتاج الألواح الشمسية والعروض. تستمر تطبيقات التنفيذ المشترك في النمو كل يوم.

يستخدم Copttering أكثر من كاثود واحد (عادة اثنين أو ثلاثة) في غرفة العملية حيث يمكن التحكم في القدرة على كل الكاثود بشكل مستقل. يمكن أن يعني ذلك وجود كاثودات متعددة من نفس المواد المستهدفة التي تعمل في نفس الوقت لزيادة معدلات الترسب ، أو يمكن أن يعني أيضًا الجمع بين أنواع مختلفة من مواد الأهداف في غرفة العملية لإنشاء تركيبات وخصائص فريدة في الأفلام الرقيقة.

أهداف السيليكون التي يتم تعرّضها في البلازما التي تحتوي على الأكسجين حيث أن الغاز التفاعلي يشكل SiO2 الذي يحتوي على مؤشر الانكسار 1.5. التيتانيوم يتدفق في البلازما مع أشكال الأكسجين TiO2 مع فهرس عاكس 2.4. من خلال الانتهاء من هذين الهدفين للطبقة وتغيير القدرة على كل من هذه المغنطيسية المزدوجة ، يمكن تخصيص مؤشر الانكسار الدقيق للطلاء وإيداعه على الزجاج إلى أي مؤشر الانكسار المطلوب بين 1.5 و 2.5.

وبهذه الطريقة ، مكّن الانتشار المشترك التفاعلي من إنشاء طلاء أفلام رفيع على الزجاج والمواد الأخرى مع فهارس الانكسار القابلة للتخصيص أو المتدرج - بما في ذلك الطلاء حتى يغير الخصائص العاكسة للزجاج المعماري مع تزايد الشمس أو أضعف.
التنقيط المشترك هو عملية التبخر الحرارية التي يمكن أن تتمتع بمزايا أو عيوب مقارنة بالتجول المشترك ، اعتمادًا على التطبيق المحدد ، من الأفضل فهمها من خلال تحديد الاختلافات الأساسية بين عمليات التبخر وعمليات طلاء PVD.

مع التنقيط المشترك ، يتم تسخين مواد الطلاء في غرفة فراغ عالية حتى تبدأ في التبخر أو السامي. يتم تحقيق ذلك من خلال تسخين المادة المصدر وتبخر إما من سلة/سلك خيوط مقاومة أو من بوتقة باستخدام شعاع الإلكترون. لتحقيق درجة عالية من التوحيد مع الأفلام الرقيقة المتبعة حرارياً ، غالبًا ما يتم معالجة الركيزة المراد تعديلها عن طريق تدويرها على محور واحد أو محورين داخل غرفة الترسب.

التطبيقات الشائعة للأفلام الرقيقة المشتركة هي مع الطلاء المعدني على المواد البلاستيكية أو الزجاج أو غيرها من المواد الركيزة التي توفر درجة عالية من العتامة والانعكاس ، ومرايا التلسكوب ، والألواح الشمسية.

حققت الألواح الشمسية القائمة على Cu (in ، GA) SE2 (CIGS) أعلى كفاءة قياسية بين الخلايا الشمسية الرقيقة الأفلام مع كفاءة قياسية تزيد عن 20 ٪. مفتاح هذا النجاح هو عملية التنفس المشتركة من 3 مراحل والتي تؤدي إلى تدرج GA مزدوج متعمق مع زيادة تركيز GA من كل من الأسطح الأمامية والخلفية لترسب الفيلم الرقيق. هذه هي نوع عمليات التنقيط المشتركة بين الكفاءات المتكافئة التي تقدمها عمليات التنفس المشتركة في العالم الحقيقي مما يجعل عالمًا أكثر خضرة وأنظف وأكثر كفاءة في استخدام الطاقة يتوسع بسرعة إلى المستقبل .333