ما هي أنواع الاخرق المغنطروني بالتردد المتوسط ​​في آلة طلاء الفراغ？

الاخرق المغنطرون ل المغطي الفراغ يشمل العديد من الأنواع. لكل منها مبادئ عمل وكائنات تطبيق مختلفة. ولكن هناك شيء واحد مشترك: التفاعل بين المجال المغناطيسي والإلكترونات يجعل الإلكترونات تدور حول السطح المستهدف ، مما يزيد من احتمال إصابة الإلكترونات بغاز الأرجون لإنتاج الأيونات. تتصادم الأيونات المتولدة مع السطح المستهدف تحت تأثير المجال الكهربائي لتفتيت المادة المستهدفة. في العقود الأخيرة من التطوير ، اعتمد الجميع تدريجياً المغناطيس الدائم ، ونادرًا ما يستخدم مغناطيس الملف.
ينقسم المصدر المستهدف إلى أنواع متوازنة وغير متوازنة. يحتوي المصدر المستهدف المتوازن على طلاء موحد ، والمصدر المستهدف غير المتوازن لديه قوة ارتباط قوية بين طبقة الطلاء والركيزة. تستخدم المصادر المستهدفة المتوازنة في الغالب للأفلام البصرية شبه الموصلة ، وتستخدم المصادر غير المتوازنة في الغالب لارتداء الأفلام الزخرفية.
بغض النظر عن التوازن أو عدم الاتزان ، إذا كان المغناطيس ثابتًا ، فإن خصائص المجال المغناطيسي تحدد معدل استخدام الهدف العام أقل من 30٪. من أجل زيادة معدل استخدام المادة المستهدفة ، يمكن استخدام مجال مغناطيسي دوار. ومع ذلك ، فإن المجال المغناطيسي الدوار يتطلب آلية دوارة ، ويجب تقليل معدل الرش. تستخدم المجالات المغناطيسية الدوارة في الغالب للأهداف الكبيرة أو باهظة الثمن. مثل الاخرق فيلم أشباه الموصلات. بالنسبة للمعدات الصغيرة والمعدات الصناعية العامة ، غالبًا ما يتم استخدام مصدر هدف ثابت مع مجال مغناطيسي.

من السهل رش المعادن والسبائك بمصدر مستهدف مغنطروني ، ومن السهل الاشتعال والرشاش. وذلك لأن الهدف (الكاثود) والبلازما وغرفة التفريغ للأجزاء المتناثرة يمكن أن تشكل حلقة. ولكن إذا تم رش عازل مثل السيراميك ، فإن الدائرة تنكسر. لذلك يستخدم الناس مصادر طاقة عالية التردد ويضيفون مكثفات قوية إلى الحلقة. بهذه الطريقة ، تصبح المادة المستهدفة مكثفًا في الدائرة العازلة. ومع ذلك ، فإن مصدر طاقة المغنطرون عالي التردد باهظ الثمن ، ومعدل الاخرق صغير جدًا ، وتكنولوجيا التأريض معقدة للغاية ، لذلك يصعب اعتمادها على نطاق واسع. لحل هذه المشكلة ، تم اختراع الاخرق التفاعلي المغنطروني. بمعنى ، يتم استخدام هدف معدني ، ويتم إضافة الأرجون والغازات التفاعلية مثل النيتروجين أو الأكسجين. عندما تصطدم المادة المعدنية المستهدفة بالجزء بسبب تحويل الطاقة ، فإنها تتحد مع غاز التفاعل لتكوين نيتريد أو أكسيد.
تبدو عوازل الاخرق التفاعلية المغنطرونية سهلة ، لكن العملية الفعلية صعبة. المشكلة الرئيسية هي أن التفاعل لا يحدث فقط على سطح الجزء ، ولكن أيضًا على الأنود وسطح غرفة التفريغ وسطح المصدر المستهدف. سيؤدي هذا إلى إطفاء الحريق ، وانحناء مصدر الهدف وسطح قطعة العمل ، وما إلى ذلك. تعمل تقنية المصدر ثنائي الهدف التي اخترعها Leybold في ألمانيا على حل هذه المشكلة جيدًا. المبدأ هو أن زوجًا من المصادر المستهدفة هما الأنود والكاثود بشكل متبادل للتخلص من الأكسدة أو النيتريد على سطح الأنود.
التبريد ضروري لجميع المصادر (مغنطرون ، متعدد الأقواس ، أيونات) ، لأن جزءًا كبيرًا من الطاقة يتحول إلى حرارة. إذا لم يكن هناك تبريد أو تبريد غير كافٍ ، فإن هذه الحرارة ستجعل درجة حرارة المصدر المستهدفة أكثر من 1000 درجة وتذيب المصدر المستهدف بالكامل.
غالبًا ما يكون جهاز المغنطرون مكلفًا للغاية ، ولكن من السهل إنفاق الأموال على معدات أخرى مثل مضخة التفريغ و MFC وقياس سماكة الفيلم دون تجاهل المصدر المستهدف. حتى أفضل معدات رش المغنطرون بدون مصدر هدف جيد مثل رسم تنين دون إنهاء العين.