ما هي أنواع الدماغ المغنطيسي المتوسطة في آلة الطلاء？

Magnetron الضيق ل فراغ الطلاء يشمل العديد من الأنواع. لكل منها مبادئ عمل مختلفة وكائنات التطبيق. ولكن هناك شيء واحد مشترك: التفاعل بين المجال المغناطيسي والإلكترونات يجعل الإلكترونات دوامة حول السطح المستهدف ، مما يزيد من احتمال أن تضرب الإلكترونات غاز الأرجون لإنتاج أيونات. تصطدم الأيونات التي تم إنشاؤها مع السطح المستهدف تحت عمل الحقل الكهربائي لتخفيف المادة المستهدفة. في العقود الأخيرة من التطوير ، اعتمد الجميع تدريجياً مغناطيسًا دائمًا ، ونادراً ما يستخدم مغناطيس الملف.
ينقسم المصدر المستهدف إلى أنواع متوازنة وغير متوازنة. يحتوي المصدر المستهدف المتوازن على طلاء موحد ، والمصدر المستهدف غير المتوازن لديه قوة ترابط قوية بين فيلم الطلاء والركيزة. تستخدم المصادر المستهدفة المتوازنة في الغالب للأفلام البصرية أشباه الموصلات ، وتستخدم مصادر غير متوازنة في الغالب لارتداء الأفلام الزخرفية.
بغض النظر عن التوازن أو عدم التوازن ، إذا كان المغناطيس ثابتًا ، فإن خصائص المجال المغناطيسي تحدد معدل استخدام الهدف العام أقل من 30 ٪. من أجل زيادة معدل استخدام المادة المستهدفة ، يمكن استخدام مجال مغناطيسي دوار. ومع ذلك ، يتطلب المجال المغناطيسي الدوار آلية دوارة ، ويجب تقليل معدل الثرثرة. تستخدم الحقول المغناطيسية الدوارة في الغالب لأهداف كبيرة أو باهظة الثمن. مثل أفلام أشباه الموصلات. بالنسبة للمعدات الصغيرة والمعدات الصناعية العامة ، غالبًا ما يتم استخدام مصدر مستهدف ثابت مع مجال مغناطيسي.

من السهل أن تدمر المعادن والسبائك مع مصدر مستهدف المغنترون ، ومن السهل إشعالها وتخلفها. وذلك لأن الهدف (الكاثود) ، البلازما ، وغرفة الفراغ للأجزاء الرائعة يمكن أن تشكل حلقة. ولكن إذا تم عزل العازل مثل السيراميك ، فسيتم كسر الدائرة. لذلك يستخدم الناس إمدادات الطاقة عالية التردد وإضافة مكثفات قوية إلى الحلقة. وبهذه الطريقة ، تصبح المادة المستهدفة مكثفًا في الدائرة العازلة. ومع ذلك ، فإن إمدادات طاقة المغنطيسية عالية التردد غالية الثمن ، ومعدل الدماغ صغير جدًا ، وتكنولوجيا التأريض معقدة للغاية ، لذلك من الصعب تبنيها على نطاق واسع. لحل هذه المشكلة ، تم اختراع التلاشي التفاعلي المغناطيسي. وهذا هو ، يتم استخدام الهدف المعدني ، ويتم إضافة الأرجون والغازات التفاعلية مثل النيتروجين أو الأكسجين. عندما تضرب المادة المستهدفة المعدنية الجزء بسبب تحويل الطاقة ، فإنها تتجمع مع غاز التفاعل لتشكيل النيتريد أو الأكسيد.
يبدو أن العوازل المتفاعلة المغناطيسية سهلة ، لكن العملية الفعلية صعبة. المشكلة الرئيسية هي أن التفاعل لا يحدث فقط على سطح الجزء ، ولكن أيضًا على الأنود ، وسطح غرفة الفراغ ، وسطح المصدر المستهدف. سيؤدي ذلك إلى إطفاء الحرائق ، وإلحاق المصدر المستهدف وسطح الشغل ، وما إلى ذلك. تقنية المصدر المستهدف التوأم الذي اخترعه ليبولد في ألمانيا يحل هذه المشكلة بشكل جيد. المبدأ هو أن زوج من المصادر المستهدفة عبارة عن أنود والكاثود المتبادل للتخلص من الأكسدة أو النصيحة على سطح الأنود.
يعد التبريد ضروريًا لجميع المصادر (Magnetron ، Multi-ARC ، أيونات) ، لأنه يتم تحويل جزء كبير من الطاقة إلى حرارة. إذا لم يكن هناك تبريد أو تبريد غير كافٍ ، فإن هذه الحرارة ستجعل درجة حرارة المصدر المستهدف أكثر من 1000 درجة وتذوب المصدر الهدف بأكمله.
غالبًا ما يكون جهاز Magnetron مكلفًا للغاية ، ولكن من السهل إنفاق الأموال على معدات أخرى مثل مضخة الفراغ ، MFC ، وقياس سمك الفيلم دون تجاهل المصدر المستهدف. حتى أفضل معدات الدماغ المغناطيسية بدون مصدر مستهدف جيد مثل رسم تنين دون الانتهاء من العين .