كيف تعمل آلة طلاء Magnetron الدماغ على إيداع الأفلام الرقيقة على ركائز؟

تبدأ عملية التلاشي المغناطيسية في غرفة فراغ ، حيث يتم تطبيق جهد عالي بين مادة مستهدفة وجدار الغرفة. تمتلئ الغرفة بغاز خامل ، عادةً ما يتم استخدامه لأنه خامل كيميائيًا ولا يتفاعل مع الهدف أو الركيزة. الجهد العالي يؤين الغاز ، وخلق البلازما. يتكون البلازما من أيونات مشحونة بشكل إيجابي ، والإلكترونات الحرة ، وجزيئات الغاز المحايدة. تعمل البلازما كوسيلة يتم من خلالها تسريع الأيونات نحو المادة المستهدفة ، وبدء عملية الضيق.

بمجرد إنشاء البلازما ، يتم تسريع الأيونات في البلازما نحو المادة المستهدفة. عادة ما يكون الهدف عبارة عن معدن أو سبيكة أو سيراميك ، تم اختياره بناءً على الخصائص المطلوبة للفيلم الرقيق الذي يتم إيداعه. عندما تصطدم أيونات البلازما ذات الطاقة العالية بالمادة المستهدفة ، فإنها ترفع الذرات من سطح الهدف من خلال عملية تسمى الثرثرة. هذه الذرات القاذفة هي المادة التي ستشكل الفيلم الرقيق على الركيزة. يتم التحكم بشكل كبير في عملية التلاشي ، مما يضمن طرد الذرات من الهدف فقط.

تتمثل الميزة المميزة للاختراق المغناطيسي في استخدام حقل مغناطيسي وضع خلف المادة المستهدفة. الحقل المغناطيسي يعزز بشكل كبير من كفاءة عملية التلاشي. إنه يفصح الإلكترونات بالقرب من السطح المستهدف ، مما يزيد من كثافة البلازما ويعزز المزيد من التأين للغاز الخامل. يؤدي هذا التعزيز إلى ارتفاع معدل القصف الأيوني على الهدف ، مما يحسن من كفاءة الثرثرة ومعدل الترسيب. تساهم البلازما المكثفة أيضًا في تحسين جودة الفيلم ، حيث أنها تؤدي إلى عملية تعرّض أكثر اتساقًا ومكافحة ، مما يقلل من المشكلات مثل التسمم المستهدف أو الشوائب المادية.

الذرات التي يتم إخراجها من المادة المستهدفة تنتقل عبر البلازما وتسلق في النهاية على الركيزة ، والتي يتم وضعها مقابل الهدف في غرفة الفراغ. يمكن أن تكون الركيزة أي مادة تتطلب طبقة رقيقة ، بما في ذلك الزجاج أو المعدن أو البلاستيك. عندما تصل الذرات المدمرة إلى الركيزة ، تبدأ في التكثيف والالتزام بالسطح ، وتشكل طبقة فيلم رقيقة. تعتمد خصائص الفيلم ، مثل السماكة ، وقوة التصاق ، والتوحيد ، على عوامل مثل وقت الترسيب ، والطاقة المقدمة للهدف ، وظروف الفراغ في الغرفة.

عندما تتراكم الذرات على الركيزة ، تبدأ في الرابطة على السطح ، مما يخلق فيلمًا صلبًا. ينمو الفيلم ذرة بالذرة ، ويمكن أن تتأثر خصائصه بمعلمات الترسيب ، مثل ضغط الغاز في الغرفة ، ودرجة حرارة الركيزة ، والطاقة المطبقة على الهدف. يفضل التهدئة المغناطيسية بشكل خاص لإنتاج الأفلام ذات التوحيد العالي والنعومة ومعدلات العيوب المنخفضة. يمكن تصميم جودة الفيلم لتطبيقات محددة ، مثل تحقيق صلابة عالية أو شفافية بصرية أو توصيل كهربائي.

Magnetron Sputtering Coating Machine